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    uv光催化氧化设备维护时要注意的事项

    文章出处:华康中天    人气:141     发表时间:2021-09-04

    光催化通常是指物在光的作用下,逐步氧化成低分子中间产物生成CO2、H2O及其他的离子如NO3-、PO43-、Cl-等。物的光降解可分为直接光降解、间接光降解。前者是指物分子吸收光能后进一步发生的化学反应。后者是周围环境存在的某些物质吸收光能成激发态,再诱导一系列污染的反应。间接光降解对环境中难生物降解的污染物愈为重要。

    利用光化学反应降解污染物的途径,包括无催化剂和有催化剂参与的光化学氧化过程。前者多采用氧和过氧化氢作为氧化剂,在紫外光的照射下使污染物氧化分解后者又称光催化氧化,一般可分为均相和非均相催化两种类型。均相光催化降解中较常见的是以Fe2+或Fe3+及H2O2为介质,通过photo-Fenton反应产生HO使污染物得降解,非均相光催化降解中较常见的是在污染体系中投加量的光敏半导体材料,同时结合量的光辐射,使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对,吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用,产生HO等氧化性不错的自由基,再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等式污染物全部或接近全部矿化。

    uv光催化氧化设备的特点:

    1、速率好性:光催化氧化驱臭设备能速率好去掉挥发性物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭速率不错可达%,远超过恶臭污染物排放标(GB14554-93)。

    2、无需预处理:光催化氧化驱臭设备恶臭气体无需进行特别的预处理,如加温、加湿等,驱臭设备工作环境温度在摄氏-30度-95度之间,湿度在30%-80%、PH指在3-11之间均可正常工作。

    3、无需添加任意物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过光催化废气处理设备进行脱臭分解净化,无需添加任意物质参与化学反应。

    4、运行成本还行:光催化驱臭设备去任意机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需定期检查,本设备能耗低,(每处理废气风量为1000立方米/小时,仅耗电约0。2度电能),设备风阻低<100pa。

    5、光解作用:UV-C紫外线C波段(254nm)光束辐射小颗粒分子(由氨基酸组成的蛋白质分子,由脂肪酸组成的脂肪分子,由糖组成的淀粉分子,还有维生素分子、矿物质分子)将油脂分子链切断,改变油脂的分子结构挥发性物易受UV-C的攻击。

    6、氧化作用:UV-C紫外线C波段(185nm)在工作时与空气中的氧气反应生成臭氧。臭氧是一种强氧化剂,对气体中的醇类、酯类、酮类、醛类、醚类、苯类等分子氧化分解成如水蒸气和二氧化碳等没有危害的化合物。臭氧和OH同化合物反应并改变它们。

    光催化氧化设备

    uv光催化氧化设备维护时要注意的事项:

    1、需要认真执行各项规章制度

    要严格遵守上述规程外,还应有一套适合自己实际情况的运行管理制度,如岗位责任制度,交接班制度,检测制度,设备维护、检修制度,健康检查制度,质量检验制度和经济核算制度等。

    2、改成要严格遵守废气处理工艺技术规程、稳定规程和岗位操作规程,这些规程是组织生产与进行操作的基本法规,是从生产和实践中总结出来的规律性的东西。严格遵守这些法规是日常运行中重要的一条原则。

    3、需要要强调各工种的相互配合,生产中往往因废气处理设备辅助工作发生错误而影响生产的正常运行,如分析的错误将引起加料量和物料成分的改变;仪表的指示错误会欺骗操作人员,使得实际操作条件偏离工艺规程的要求。电器故障和设备故障也会引起生产的不正常。


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